随着现代触控技术的不断进步,未来触控面板将往大尺寸化、低价化,可弯曲折叠化方向发展。传统ITO薄膜由于存在导电性差、成本昂贵、不可弯曲等本质问题而发展受限。金属网格工艺技术为大尺寸低电阻、窄边框提供了有力技术支持,该技术可以将柔性触控屏尺寸从智能手机的常用面板尺寸覆盖到86英寸以上。采用金属网格透明导电膜来替代ITO透明导电膜已成为未来趋势。目前常用的金属网格工艺是,通过显影、蚀刻等工艺在PET膜上得到预留凹槽(宽度≤3μm);再将导电银浆刮涂入刻蚀的预留凹槽中,进行低温固化,形成金属网格触控电极及周边引线,得到金属网格电容式触摸屏。该工艺方法由于工艺简单,成本低、透光性好,产品柔性高等优势,逐步成为触摸屏柔性化、大尺寸、轻薄化发展的重要趋势。
在上述工艺技术中,银浆是其核心原材料之一。触摸屏导电银浆,是一种高银含量超细银粉低温导电银浆,采用独特的工艺将超细银粉和高分子树脂精研而成。为了达到高透明度、高导电率的要求,银浆的电阻率要小,且填充于槽内的银浆经过低温固化后,必须与基材具有极佳的结合力和机械性能。目前常用三辊机来分散银浆,但是颗粒细度比较大,分散性也不好,无法有效填充于3微米超细沟槽内。另外,着色用的碳浆也存在上述问题。
为了解决上述技术问题,我们提供了用TRILOS超高压纳米均质机,制作触摸屏用银浆和碳浆的方法。
1. TRILOS超高压纳米均质机介绍:
TRILOS超高压纳米均质机采用高压喷射原理,能够在短时间内产生巨大的剪切力,碰撞力,气穴力,从而将大量能量集中作用于物料,使物料的成分以完全的均质的状态存在,能够大幅提升效率。
TRILOS超高压纳米均质机不堵不漏,采用10寸工业触控屏,可实时监控压力曲线图,最高压力可达4000bar。
图1 均质机原理图
2. 实验描述:
先用混料脱泡机预分散银浆或碳浆,然后采用TRILOS超高压纳米均质机,均质分散样品,并研究不同均质次数对浆料分散稳定性的影响。分别采用LISICO分散均质分析测试仪或LUMiSizer分散稳定性分析仪,测试样品的稳定性。
3.实验过程及测试结果:
3.1.银浆:
采用TRILOS超高压纳米均质机,将银浆样品在2500bar压力下分别处理1至5遍。
图3 用TRILOS超高压纳米均质机处理银浆
采用LISICO分散均质分析测试仪,测试均质前后银浆样品的分散稳定性,结果如图5所示。
图4 LISICO 分散均质分析测试仪
由图5可知,均质1次后,银浆样品的弛豫时间有所增加,分散稳定性变差;继续均质几次,样品的弛豫时间减小至均质前的水平,表明其分散稳定性变化不大。粒径测试结果表明,均质前的TDS-0样品的D50粒径为5微米;均质4次后,TDS-4样品的粒径降至2.5微米。此外,电性能也较均质前提高10%左右。
图5均质前后银浆样品的弛豫时间
此外我们也采用LUMiSizer分散稳定性分析仪,测试银浆样品的稳定性,结果如图7所示。
图6 LUMiSizer稳定性分析仪(测试条件:4000 g,16h,25℃)
图7 均质前后银浆样品的不稳定性指数对比
采用STEP技术,可以定量分析稳定性,得出每个样品的“不稳定性指数”。
不稳定性指数越小,表明体系越稳定。由银浆样品的不稳定指数柱状图可知,就实验全过程来看,样品的不稳定性顺序依次为:
TDS-4<TDS-0=TDS-1<TDS-5<TDS-3<TDS-2,其中TDS-4样品最稳定。
3.2.碳浆:
采用TRILOS超高压纳米均质机,将碳浆样品在2500bar压力下分别处理1至5遍。
图8均质前后碳浆样品的弛豫时间
由图8可知,均质1次后,碳浆样品的弛豫时间大幅减小,分散稳定性变好;继续均质几次,碳浆样品的弛豫时间与均质前相当。表明均质次数不能过多,否则对分散稳定性有不利的影响。
4. 结论:
经过TRILOS超高压纳米均质机处理后,触摸屏用银浆的粒度减小,电性能提高;着色用的碳浆的分散稳定性变好。
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