GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。
GDA 650/GDA 150装备有新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。
高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力， 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。
这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。
在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。
GDA 650/GDA 150装备有新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。
GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。
采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。
激发光源
同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证良好的稳定性和重复性
-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜
-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率
-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um
-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA
-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)
-选装件：自动进样器，程序控制100位
光学系统
高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm
-光谱分辨率优于20pm(FWHM)
-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm
-全息原刻光栅，2400线/mm
-光室恒温控制，仪器稳定性优异
-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测
-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析
-CCD检测器的灵敏度可自动调节
真空系统
-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析
-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音<50dB
-单泵设计，同时运用于光源和光室
-特殊的旋片真空泵，可大限度的减少C，H元素的污染
-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害
-选装件：涡轮分子泵
-选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代
WinG DOES软件
-WindowsXP或更高平台运行
-使用界面简单、易懂，分级管理和操作
-功能强大
-方法建立简便，在线指导
-校准样品管理，珍稀样品添加
-多种校准模式
-基体总量元素测量校准
-QDP定量分析校准
-用户定制测量报告模式
-数据处理和再处理功能
-多种格式数据输出
-分析过程中界面语言切换
应用
-热处理
精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例
-涂镀层
可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
-硬质合金层
快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分
-陶瓷
采用RF光源可精确可靠的测量
-化学组分
精确测量化学元素含量
高精度、高重复性检测
快速分析：<60s
可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%
-太阳能电池薄膜
检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量
辉光放电光谱仪主要应用领域
-汽车制造及零部件
-金属加工、制造
-冶金
-航空、航天
-电子工业
-玻璃、陶瓷
-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等
-电镀
-光伏电池、锂电
-科学研究
